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淺談納米砂磨機(jī)運(yùn)作要符合的要求
發(fā)布時(shí)間：2020-05-21 點(diǎn)擊次數(shù)：2351 次
1、低溫工作狀態(tài)要求
根據(jù)不同納米砂磨機(jī)的分散機(jī)理，研磨室中的珠粒和顆粒交換碰撞產(chǎn)生摩擦?xí)r會(huì)產(chǎn)生高熱。如果沒(méi)有及時(shí)帶走熱量，材料會(huì)團(tuán)聚在較高的溫度，從而達(dá)到納米所需的細(xì)度。
2、沒(méi)有污染條件
根據(jù)砂磨機(jī)的分散機(jī)理，當(dāng)微球受到?jīng)_擊和摩擦產(chǎn)生固體顆粒時(shí)，研磨腔和腔內(nèi)攪拌處理裝置磨損嚴(yán)重，活性強(qiáng)度也很大，因此腔內(nèi)材料和攪拌反應(yīng)元件要具有抗磨性；否則，由于沒(méi)有磨損而污染主要原料，使設(shè)備的使用網(wǎng)絡(luò)壽命時(shí)間較短，重要的是污染源使分散的原材料進(jìn)行再次發(fā)生團(tuán)聚，不能有細(xì)度和正態(tài)分布的要求。
3、使用大流量研磨分散工藝
采用珠液分離裝置，需要實(shí)現(xiàn)珠不能阻擋分離器，使流經(jīng)分離器的液體槳通過(guò)分離器，使較小的原料顆粒不能在破碎室吸收過(guò)多的沖擊能量，團(tuán)聚，減少研磨分散室的溫度。
4、使用小尺寸的微珠
使用相同的粒徑較小的砂磨機(jī)，較大的微球到砂磨機(jī)數(shù)，在接觸點(diǎn)幾何，研磨和分散的效率越高的微球的數(shù)量；反之，減少粉磨效率，通常他說(shuō)，一般做亞微米分散研磨珠采用0.2-0.6mm，并利用0.05-0.1納米級(jí)分散研磨珠。為了補(bǔ)充微珠的質(zhì)量研究，可以通過(guò)增加轉(zhuǎn)速來(lái)補(bǔ)充能量管理的不足。因此，納米速度砂磨機(jī)通常為數(shù)次常規(guī)砂磨機(jī)。
轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處：http://www.zhuandongj.cn
根據(jù)不同納米砂磨機(jī)的分散機(jī)理，研磨室中的珠粒和顆粒交換碰撞產(chǎn)生摩擦?xí)r會(huì)產(chǎn)生高熱。如果沒(méi)有及時(shí)帶走熱量，材料會(huì)團(tuán)聚在較高的溫度，從而達(dá)到納米所需的細(xì)度。
2、沒(méi)有污染條件
根據(jù)砂磨機(jī)的分散機(jī)理，當(dāng)微球受到?jīng)_擊和摩擦產(chǎn)生固體顆粒時(shí)，研磨腔和腔內(nèi)攪拌處理裝置磨損嚴(yán)重，活性強(qiáng)度也很大，因此腔內(nèi)材料和攪拌反應(yīng)元件要具有抗磨性；否則，由于沒(méi)有磨損而污染主要原料，使設(shè)備的使用網(wǎng)絡(luò)壽命時(shí)間較短，重要的是污染源使分散的原材料進(jìn)行再次發(fā)生團(tuán)聚，不能有細(xì)度和正態(tài)分布的要求。
3、使用大流量研磨分散工藝
采用珠液分離裝置，需要實(shí)現(xiàn)珠不能阻擋分離器，使流經(jīng)分離器的液體槳通過(guò)分離器，使較小的原料顆粒不能在破碎室吸收過(guò)多的沖擊能量，團(tuán)聚，減少研磨分散室的溫度。
4、使用小尺寸的微珠
使用相同的粒徑較小的砂磨機(jī)，較大的微球到砂磨機(jī)數(shù)，在接觸點(diǎn)幾何，研磨和分散的效率越高的微球的數(shù)量；反之，減少粉磨效率，通常他說(shuō)，一般做亞微米分散研磨珠采用0.2-0.6mm，并利用0.05-0.1納米級(jí)分散研磨珠。為了補(bǔ)充微珠的質(zhì)量研究，可以通過(guò)增加轉(zhuǎn)速來(lái)補(bǔ)充能量管理的不足。因此，納米速度砂磨機(jī)通常為數(shù)次常規(guī)砂磨機(jī)。
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